幹蝕（shí）刻大（dà）多（duō）是等離子（zǐ）蝕刻或（huò）化學（xué）蝕刻（kè）的（de）一（yī）種。由於（yú）蝕（shí）刻效果不同，等（děng）離子體中離子的物理原子、活性自由基的化學反應以（yǐ）及器件(晶圓)的表麵（miàn）原子，或兩者的結（jié）合，包括以下幾點：

　　l物理蝕刻：濺射蝕刻（kè）、離子束蝕（shí）刻（kè）

　　l化學（xué）蝕刻：等（děng）離子（zǐ）蝕刻

　　l物理化學複合蝕刻：反應離子蝕刻(RIE)

                                                

　　幹蝕刻是一種各向異性蝕刻，具備良好的方向性，但（dàn）可選擇性比濕蝕刻（kè）差。在等（děng）離（lí）子體蝕刻（kè）中，等離子體是一種部分（fèn）離（lí）解的氣體，氣體分（fèn）子被（bèi）離解成電子、離子和其他具有較高（gāo）的化學活性（xìng）的物質。幹（gàn）蝕刻最大的優點是“各向異性蝕刻（kè）”。然而，(自由基)幹蝕刻的選擇性低於濕蝕刻。這是因（yīn）為幹蝕刻的蝕刻機理是物理相互作用;因此，離子的衝擊不僅僅可以去除蝕刻（kè）膜，還（hái）可以去除光刻膠掩模。

        如果大家還想進一步了解關於金屬蝕刻加工的相關信息，歡迎來電詳詢!