一（yī）、工藝（yì）原理對（duì）比

• 鎳電鑄：通過電化學沉積（jī）形成鎳層，厚（hòu）度可控（1-100μm）；
• 蝕刻：化學溶液腐蝕金屬表麵，形（xíng）成凹陷圖案。

二、核心指標對（duì）比

三、適用場景推（tuī）薦

• 鎳電鑄：奢侈（chǐ）品 LOGO、精密儀器標識、曲麵標牌；
• 蝕刻（kè）：戶外導（dǎo）視牌、工業設備銘牌、低成本批量訂單。

四、案例分析

• 案例 1：某高端手表品牌選擇鎳電鑄（zhù）工藝製作（zuò）表盤 LOGO，0.05mm 發絲紋細節清晰可見；
• 案（àn）例 2：某工廠批量定製設備標牌，蝕刻工藝降低成本 30%，滿足基本標識需求。

五、技術發展趨勢

結（jié）語