不鏽鋼蝕刻工藝流（liú）程主要分為以（yǐ）下幾個階段，依據材（cái）料類型和加工要求存（cún）在（zài）細節差異：

　　一、表麵預處理

　　清除不鏽鋼（gāng）板表麵油汙（wū）、氧化層及雜質（zhì）。堿（jiǎn）性脫脂劑浸泡(濃度8%-10%，溫度50-60℃，時長15-20分鍾)，高壓（yā）水衝洗;頑固氧化層采用10%硝酸溶液浸泡5-8分鍾（zhōng），去離子水衝洗至中性。預處理後無塵烘（hōng）幹，表麵粗糙度控製Ra≤0.8μm。

　　二（èr）、掩膜製（zhì）作與圖（tú）案轉印

　　塗覆抗蝕層‌：

　　絲網印刷：適用於線寬≥0.3mm圖案，300-400目絲網，膠膜厚20-30μm。

　　光刻（kè）工藝：精密圖案采用旋塗法(轉速（sù）1200-1500rpm)，膠層厚5-8μm。

　　曝光顯影（yǐng）‌：紫外（wài）光固化(能量密（mì）度80-120mJ/cm²)，碳酸鈉溶液顯（xiǎn）影(濃度1%-2%，溫度30-35℃)。後（hòu）烘增強耐蝕性（xìng）(110-120℃/30分鍾，硬度達4H鉛筆標準)。

　　三、蝕刻處理

　　濕（shī）法蝕刻（kè）(主（zhǔ）流工藝)‌：

　　蝕刻液：三氯化鐵混合液(FeCl₃濃度30%-40%，HCl濃度5%-8%);或氯化鐵鐵係蝕刻液(含緩蝕劑、絡合劑)。

　　參數：溶（róng）液溫（wēn）度40-50℃，噴淋壓力（lì）0.15-0.25MPa，傳送帶速度0.8-1.2m/min。

　　深度（dù）控製：裝飾（shì）件0.05-0.15mm，工業零（líng）件（jiàn）0.2-0.5mm。

　　幹法蝕刻(高精度（dù）需（xū）求)‌：等離子體或離子束定向蝕（shí）刻，用於微米（mǐ）級加工。

　　四、後處理

　　去膜清洗‌：堿液退除抗蝕膜(氫氧化鈉溶（róng）液40-60g/L，溫度50-80℃)，去離子水衝洗。

　　鈍化防鏽‌：鉻酸鹽鈍化處理增強（qiáng）抗氧化性。

　　表麵（miàn）修飾‌：選擇性進行拋（pāo）光、電鍍或（huò）著色處理。

　　五、質量檢測

　　光學（xué）顯微鏡或SEM檢查圖案（àn）精度(線（xiàn）寬偏（piān）差<5%)，確認蝕刻深（shēn）度及表麵（miàn）無損傷（shāng）。

　　工藝選擇依據‌：

　　批量生產‌：濕法蝕刻（kè）成本低，適合304不鏽鋼。

　　精密零件‌：幹法蝕刻或光刻工藝用於316不鏽鋼微米（mǐ）級加工。

　　環保（bǎo）要求‌：幹法蝕刻避免化學廢液，濕法需管（guǎn）控廢水處理。