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不鏽鋼蝕刻技術的(de)具體工藝流程

文章出處:不鏽(xiù)鋼蝕刻 人氣:發表時間:2025-07-10 09:09


  不鏽鋼蝕刻技術(shù)的具體工藝流程如下:

  一、不鏽鋼蝕刻前處理

  除油清洗‌

  使用堿性(xìng)溶液(氫氧化鈉100-150g/L+碳酸鈉100g/L+磷酸鈉50-100g/L)浸泡去(qù)除表麵油脂與汙染物。

  電(diàn)解(jiě)除油增強(qiáng)清潔效果,水溫(wēn)控製在50-80℃。

  不鏽鋼(gāng)蝕刻表(biǎo)麵活化‌

  酸洗去除氧化層,常用鹽酸或混合酸(suān)液(yè)(如HCl+HNO₃)處理。

  退火處理改善金屬晶格結構(銅(tóng)材退火溫度300-500℃)。

  幹燥(zào)‌

  無塵環境烘烤或氮氣(qì)吹掃,確保表麵無水(shuǐ)分殘留。

  二、掩膜製作

  塗覆(fù)抗蝕劑‌

  光敏(mǐn)抗蝕劑通過旋塗(轉速控製厚度)或噴塗覆蓋基材,厚度5-25μm。

  幹膜抗蝕(shí)劑厚度15-30μm,前烘(hōng)溫度80-100℃去除溶劑。

  曝光(guāng)顯影‌

  紫外光(guāng)(波長365nm)通過膠片掩膜曝光,能量10-30mJ/cm²。

  碳酸鈉溶(róng)液溶解未曝光區域,形成鏤空圖案。

  三、蝕刻成型

  化學蝕刻‌

  三氯(lǜ)化鐵溶液(濃度28-42Be°)或HCl+HNO₃混合液,溫度40-50℃。

  蝕刻(kè)速率約12μm/min,噴淋壓(yā)力(lì)控製均勻性(xìng)。

  物理蝕刻‌

  等離子體蝕刻(CF₄/O₂氣體)或激光蝕刻實現微米級精度。

  四、後處理

  去膜清洗‌

  氫(qīng)氧(yǎng)化鈉溶液(40-60g/L,溫度50-80℃)浸泡去(qù)除抗蝕劑(jì)。

  丙酮或氧(yǎng)等離子體清除殘留膠膜。

  表麵精整‌

  電解拋光或機械拋光(砂紙600-2000目)改善(shàn)粗糙度。

  鈍化處理(硝酸/檸檬酸溶液(yè))提升防鏽性。

  功(gōng)能性處理‌

  電鍍(鍍金/錫)增強導電性,或染色實現裝飾效果。

  五、質量檢測

  二次元影像測量儀驗證公差(chà)(常規±0.05mm,精密±0.01mm)。

  SEM/AFM檢查邊緣(yuán)粗糙(cāo)度(目標Ra≤0.1μm)。

  流程要點:

  材料適用性(xìng)‌:304/316L不鏽鋼需調整蝕刻液配方(如SUS312L用混酸)。

  環保措施‌:閉環係統回(huí)收95%以上金屬離子,生物降解型蝕刻劑pH=2.5-3.5。

  缺(quē)陷控(kòng)製‌:藥液比重實時監測防止過蝕,退膜後酸洗消除氧化殘留。

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