不鏽鋼蝕刻工藝主要通過可控腐蝕實現表（biǎo）麵（miàn）圖案或結構加工，常見工藝包括以下三類（lèi）：

　　電解蝕刻工藝‌

　　使用（yòng）直流電源(電壓範圍9–24V)和電解質溶液(如（rú）食鹽水)，通過正負極接觸不鏽鋼表麵進行電解反應，快速腐蝕暴露區域形成（chéng）圖案;適（shì）用於餐具、刀具等個性化定製，操作簡單且成本低，但精度較低(線寬約0.1mm)‌。

　　核心步驟：準備（bèi）鏤空模板貼於不鏽鋼表麵，棉簽蘸鹽水連接負極，通電後電解液腐蝕未保護區域，最終去除（chú）模板獲得（dé）永久標（biāo）記‌。

　　化學蝕刻工藝‌

　　基於（yú）化學蝕刻（kè）液(如酸性或堿性溶液)與不鏽鋼的化學反應，通過精（jīng）密光刻掩膜技術控製腐蝕區域，實現微米級精度(公差±5μm);適用於工業級應用如醫療器械或裝（zhuāng）飾板，蝕刻麵無毛刺並維（wéi）持材料硬度(HV200-250)‌。

　　核心（xīn）步驟：表麵塗覆抗蝕（shí）層(耐酸油墨（mò）或光刻膠)，蝕刻液腐蝕暴露金屬，再去除抗蝕層形成複雜圖案，支持0.05mm微孔加工及閉路廢（fèi）液回（huí）收(回收率95%)‌。

　　精密光刻蝕刻工（gōng）藝‌

　　結合計算機輔助設計（jì）(CAD)和光刻技術，將矢量圖紋（wén）轉移到不鏽鋼表麵（miàn），再進行化學或（huò）電解蝕刻;優勢在於處理複雜鏤空結構(如3D流道（dào）或超（chāo）疏水表麵)，適配半導體密封件、心血管（guǎn）支架等高精場景‌。

　　核心特點：規避機械應力導致的（de）材料變形，支持厚（hòu）度0.03–3mm不鏽鋼板的梯度結構定製，蝕孔邊緣粗（cū）糙度≤Ra0.1μm‌。