化學蝕刻

　　五金（jīn）蝕刻將（jiāng）金屬工件浸入酸性溶（róng）液。溶液成分為鹽酸15%-25%，硝酸5%-10%，溫度控（kòng）製在40-60℃。浸（jìn）泡時間根據材料厚度調整，每0.1mm需（xū）2-3分鍾。取出後立即用清水衝洗，中和液采（cǎi）用5%碳酸鈉溶液。該工藝適用於不鏽鋼、銅合金材料。

　　激光蝕（shí）刻

　　使用光纖激（jī）光器，波長1064nm，功率範圍20W-50W。聚焦光斑直徑0.05-0.1mm，掃描（miáo）速（sù）度300-800mm/s。通過數控係統控製路（lù）徑，深度精度（dù）±0.01mm。需配備抽風（fēng）除塵裝置，工作環境濕度需低於60%。適（shì）用於（yú）硬質合金及精密零（líng）件。

　　電解蝕刻

　　采用直流電源，電壓（yā）6-12V，電流密度2-5A/dm²。電解液為10%氯化鈉溶液，電極（jí）間距50-100mm。處理時間5-15分鍾，需保持溶液循環過濾。完成後用去離子（zǐ）水清洗，烘（hōng）幹溫（wēn）度80-100℃。適合批量加（jiā）工鋁合金部件。

　　光化學蝕刻

　　流程分為五個步驟：

　　基材前處理：脫脂采用堿性清洗劑PH值9-11

　　塗布感光膠：膜厚8-12μm，烘幹溫度70℃

　　曝光：紫外光強度30mW/cm²，曝光（guāng）時間40-60秒

　　顯影：1%碳酸鈉溶液，溫度25℃，時（shí）間90秒（miǎo）

　　蝕刻：三氯化鐵溶液濃度28-32波美度

　　五（wǔ）金蝕刻工藝（yì）流程對比

　　參數

　　化學蝕刻

　　激光蝕刻

　　電解蝕刻

　　精（jīng）度（dù）(mm)

　　±0.05

　　±0.01

　　±0.03

　　速度（dù）(cm²/min)

　　15-30

　　5-15

　　20-40

　　最小線寬(mm)

　　0.15

　　0.02

　　0.10

　　設備成本(萬)

　　5-10

　　15-30

　　8-12

　　質量檢測標準

　　尺寸公差：按GB/T1804-m級

　　表麵粗糙度：Ra≤1.6μm

　　邊緣垂直度：≤5°

　　蝕刻深度偏差（chà）：≤±5%設定值

　　表麵殘留：氯（lǜ）化（huà）物含量<0.1mg/dm²