不鏽鋼蝕刻工藝主要分為（wéi）化學蝕刻與電化學蝕刻兩類，通過（guò）可控腐蝕（shí）實現微米級加（jiā）工，核（hé）心流程及（jí）技術特點如下：

　　一、核心（xīn）工藝流程

　　前處理‌

　　堿（jiǎn）性脫脂清潔板材，徹底去除（chú）油汙與氧化層，確保表麵潔淨度‌。

　　塗布與曝光‌

　　均勻噴塗光刻膠形成抗蝕層，通過菲林底片紫（zǐ）外曝光轉（zhuǎn）印（yìn）圖案‌。

　　顯影蝕刻‌

　　顯（xiǎn）影（yǐng）液溶解未固化區域，暴露金屬;采用（yòng）三氯化鐵(FeCl₃)或硝酸氫氟酸混合液腐蝕，溶解速（sù）率0.02～0.1mm/min，深度公差（chà）±0.02mm‌。

　　後處理‌

　　去膠清洗後電解拋光或鈍化處理，提升耐腐（fǔ）蝕性，部分產品需（xū）著（zhe）色（sè）或硬化增強功（gōng）能‌。

　　二、關鍵技術優勢

　　精度控製‌：公差±0.005mm，線寬0.01mm，可加工0.05mm微孔陣（zhèn）列‌

　　材（cái）料保護‌：無機械應（yīng）力損傷，維持奧氏體不鏽鋼原有硬度(HV200-250)‌

　　複雜結構‌：支持3D流道、超疏水表麵等梯度結構加工‌

　　環保性‌：閉路循環係統實現廢液95%回（huí）收率‌

　　三、工（gōng）藝變體與創新（xīn）

　　電化學蝕（shí）刻‌：通過電解質溶液(如食鹽水)和直流電源(9-24V)實現DIY定製，適用於餐具刻字等場景‌。

　　掩膜優化‌：精密光刻掩膜技術實現0.1mm線（xiàn）寬，結合拉（lā）絲填漆工藝提升裝（zhuāng）飾性‌。

　　參數調控‌：調整蝕刻液濃度、溫度（dù）及時間，精準控製（zhì）孔（kǒng）徑分布密（mì）度(如2000孔/cm²陣列)‌。