金屬蝕刻（kè）標牌采用化學腐蝕工藝成（chéng）型，厚度範圍0.1-3mm。主（zhǔ）要工藝步驟包括設計排版、表麵處（chù）理、塗覆防蝕層、曝光顯影（yǐng）及化學腐蝕。設計使用AutoCAD或CorelDRAW軟件完成，圖案分辨（biàn）率需達到300dpi以上。表麵處（chù）理采用堿性除油液（yè）清洗，溫度50-80℃，時間3-5分鍾（zhōng）。防蝕（shí）層塗覆光敏膜或（huò）感光油（yóu）墨，厚（hòu）度10-50μm。曝光使用365nm波長UV光，能量100-300mJ/cm²。顯影采用碳酸（suān）鈉溶液，時間根據抗蝕劑類型調整。化學腐（fǔ）蝕使用三（sān）氯化鐵溶液，波（bō）美度42，溫度30-40℃。
　　工藝流程（chéng）包含多個關鍵環節。材料選擇（zé）304或316不鏽鋼，厚度公（gōng）差±0.05mm。塗覆防蝕層需保證（zhèng）均勻（yún）無氣泡，曝光後顯影需（xū）完（wán）全去除未聚合部（bù）分。化（huà）學腐蝕時溶液濃度（dù）波動範圍≤5%，蝕刻速率10-50μm/min。側蝕比控製在1:0.8以內，深（shēn）度公差（chà）±5μm。後處理包括去（qù）膠清洗、鈍化處理和表麵（miàn）精整。去膠使用3-5%NaOH溶液，鈍化采用20%硝酸液。精整可選擇拋光、拉絲或噴砂處理。
　　質量檢測標準包括尺寸精度、表麵質（zhì）量和性能測試。尺寸使用投影儀測量，公差±0.02mm。表麵缺陷在1000lux光源下檢查，允許直徑≤0.1mm的氣泡不超過3個/100cm²。附著力采用劃格（gé）法測（cè）試，膠帶（dài）剝（bāo）離後脫（tuō）落麵積≤5%。硬度測試維氏硬度計載荷500g，保持15秒，要求HV300以（yǐ）上。耐腐蝕性通過24-72小時（shí）鹽霧試（shì）驗，鍍層不得出現鏽蝕。色差檢（jiǎn）測ΔE值小於1.5。
　　金屬（shǔ）蝕刻標牌與其他金（jīn）屬標牌工（gōng）藝差異顯著。與（yǔ）鋁標（biāo）牌相比，金屬蝕刻采用（yòng）化學腐蝕而非機械加（jiā）工，適合複雜精細圖案。與鎳電鑄標牌（pái）相比，金屬蝕刻生產周期（qī）短，成本低，但精度略低。金屬蝕刻標（biāo）牌表麵可進行鏡麵、拉絲、磨砂等（děng）多（duō）種處（chù）理，而鎳電鑄主要為電鍍效果。金屬蝕刻（kè）標牌厚度通過板材（cái）選擇（zé）控製（zhì），鎳（niè）電鑄厚（hòu）度由沉積時間決定。金屬蝕刻標牌耐腐蝕性優於鋁標牌，但成本（běn）高（gāo）於鋁標牌。