蝕刻logo技術說明

工藝原理
金屬蝕刻是通過化學溶液溶解材料表麵的加工方法。該過程涉(shè)及以下參(cān)數:
蝕(shí)刻深度範圍0.1-0.8mm
線寬公差±0.03mm
最小間距0.15mm
蝕刻速率0.02-0.1mm/min
生產流程
基材準備
除油溫度60±5℃
酸洗濃度(dù)15-20%
水洗時間≥3min
圖形製作
曝光能量100-150mJ/cm²
顯影液濃度0.8-1.2%
烘幹溫度80-100℃
溶(róng)液溫度45±2℃
傳送速度2-4m/min
蝕刻均勻性≥90%
材料選擇
不鏽鋼304:蝕刻速度0.03mm/min
鋁合金5052:側(cè)蝕控製≤0.08mm
黃銅H62:最小線寬(kuān)0.1mm
質量檢測
尺寸檢測
三坐標測量精度0.005mm
深度測量點距(jù)≤5mm
輪(lún)廓(kuò)對比度≥65%
性能測試(shì)
鹽(yán)霧測試時間≥500h
附著力測試≥3B
耐磨測試≥3000次
應用規範
電子行業
位置精度±0.02mm
絕緣電阻≥50MΩ
耐溫範圍-20℃至85℃
機械設備
抗衝(chōng)擊強度(dù)≥40J
耐油性測試(shì)300h
防腐蝕等級C3
汽車(chē)配件(jiàn)
振動測試10-500Hz
老(lǎo)化測試1500h
表麵硬度≥HV200
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